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> BST类铁电薄膜的最低晶化温度和自组装生长研究
BST类铁电薄膜的最低晶化温度和自组装生长研究
BST类铁电薄膜的最低晶化温度和自组装生长研究
资料类型:
PDF文件
关键词:
铁电薄膜
BST
外延生长
LMBE
资料大小:
226K
所属学科:
来源:
来源网络
简介:
利用激光分子束外延技术(LMBE)在Si(111)、SrTiO3(100)单晶基片上在(10-5Pa)高真空环境中外延生长SrTiO3(STO)、BaTiO3(BTO)、Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)铁电薄膜。通过反射高能电子衍射(RHEED)实时监测薄膜生长,并结合原子力显微镜(AFM)分析薄膜的生长模式。根据RHEED衍射强度振荡曲线及衍射图样的变化确定动态和静态最低晶化温度,发现STO、BTO、BST三种铁电薄膜可以分别在280℃、330℃、340℃的低温下实现外延层状生长。当保持BTO(110)/Si(111)层状生长,逐渐降低沉积速率时,发现这种层状模式中每层高度是由整数倍单胞堆积而成,并且随着沉积速率从0.017nm/s降低到0.005nm/s时,每层高度由9降低到1个BTO单胞构成,这对由ABO3钙钛矿材料自组装形成纳米结构具有重要意义。
上传人:
上传时间:
2007-07-13 13:23:38
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